硅微粉作紅外光學薄膜的條件要求如下:
(1) 環境耐受要求嚴格:紅外薄膜大多用于紅外軍用光電系統,使用的環境往往比較惡劣,因此,在制備后還要進行嚴格的可靠性測試,測試的項目涉及溫度沖擊、風沙侵蝕、酸堿腐蝕、機械強度、抗激光輻射能力等方面。
(2) 紅外薄膜的功能要求增多:隨著光電技術的發展,對多功能集成光學元器件的性能要求越來越高。例如不同波段具有減反作用、高反作用、濾光作用、分光作用、保護作用等功能,根據具體的使用要求有選擇地集中在一個紅外膜系中,具有簡化光電系統結構、降低成本等優勢。
(3) 制備難度大:由于紅外薄膜工作光譜波段波長是可見波段的2~20 倍左右, 因此膜層一般都非常厚。膜系的設計難度、薄膜應力、制備周期長、累積誤差、制造成本等問題就會凸顯出來,這些就要在膜系設計和制備工藝上做更深入的研究。

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