硅微粉在膜系設計的研究

文章來源：http://www.dyqzzz.cn 發布時間：2022-04-29 瀏覽次數：111

硅微粉在膜系設計中非常重要的一個原則就是可以限制膜系的層數和厚度，否則會導致制備周期長、累積誤差大、應力過大甚至脫膜等現象，不利于優質薄膜的制備。例如對于1064 nm 反射膜的設計(為便于討論，此處不考慮薄膜材料的吸收)，根據薄膜設計理論，在周期膜系中，如果周期數確定，兩種材料的折射率比值越大，則反射帶就越寬，反射率也就越高。紅外波段常用組合ZnS和YbF₃ 的折射率比值約為1.5，而Si 和YbF₃ 作為材料組合時的折射率比值約為2.2。利用光學薄膜設計軟件進行研究得出，為了1064 nm 相同的反射效果，選用Si 和YbF₃ 進行膜系設計，反射帶更寬，可以大大降低中心波長的制備誤差，同時膜層的層數和厚度也大大減少。Si 在很多紅外復雜膜系中的設計也有類似的優勢，可以作為膜系設計中的高折射率材料，但是由于在可見光甚至紫外波段吸收嚴重，不適合于制備低吸收薄膜。